반도체 생산 및 FAB(Clean room)
반도체 클린 룸에서 작업하는 사람들은 특수한 복장을 입습니다. 이 복장은 클린 룸 내의 입자 및 먼지 유입을 최소화하고 반도체 제조에 안전하게 참여할 수 있도록 설계되었습니다. 주요한 요소는 다음과 같습니다:
1. 클린 룸 슈트: 클린 룸 슈트는 전체 몸을 덮는 복장으로, 특수한 소재로 만들어진 깔끔하고 밀폐된 디자인을 갖추고 있습니다. 이는 외부의 입자나 먼지가 슈트 내부로 유입되는 것을 방지합니다.
2. 헤드캡: 작업자의 머리를 완전히 덮는 헤드캡을 착용합니다. 이는 머리카락과 피부로부터의 입자 유입을 방지하고 클린 룸 내의 공기 품질을 유지합니다.
3. 마스크: 클린 룸 내에서는 입자를 발생시킬 수 있는 호흡으로부터의 오염을 막기 위해 특수한 마스크를 착용합니다. 이 마스크는 입자 여과 기능을 갖추어 작업자의 호흡을 보호하고 클린 룸 내의 공기를 정화합니다.
4. 장갑: 클린 룸 작업자는 손을 보호하기 위해 특수한 장갑을 착용합니다. 이 장갑은 작업자의 손으로부터의 입자 및 오염물질 유입을 방지하고 클린 룸 내의 작업물을 보호합니다.
5. 신발 커버: 클린 룸 내에서는 특수한 신발 커버를 착용하여 발로부터의 입자 유입을 방지합니다. 이 신발 커버는 클린 룸 내부의 바닥을 보호하고 작업자가 입구를 통해 먼지나 오염물질을 가져오지 않도록 합니다.
이러한 클린 룸 복장은 작업자의 안전을 보호하고 반도체 제조에 필요한 청정한 환경을 유지하기 위해 사용됩니다. 클린 룸 내에서는 엄격한 입장 및 퇴장 절차가 있으며, 복장은 입장 전에 착용되고 작업이 끝난 후에 제거됩니다.
반도체 제조 공정에서 사용되는 클린 룸(cleanroom)은 극도로 깨끗하고 청정한 환경을 제공하는 공간입니다. 클린 룸은 공기 중의 먼지, 입자, 이온 등의 오염을 제어하여 반도체 제조에 필요한 높은 품질과 정확성을 유지합니다. 주요한 특징과 요소는 다음과 같습니다:
1. 입자 제어: 클린 룸은 매우 낮은 입자 농도를 유지합니다. 이를 위해 공기 필터링 시스템을 사용하고, 깨끗한 공기를 공급하며, 입구와 출구를 통해 오염의 유입을 제한합니다.
2. 온도 및 습도 제어: 클린 룸은 일정한 온도와 습도를 유지하여 반도체 제조에 최적의 조건을 제공합니다. 온도와 습도는 반도체 소자의 특성과 안정성에 중요한 영향을 미칩니다.
3. 정적 방전 제어: 정전기 방전은 반도체 제조에 매우 위험한 요소입니다. 클린 룸은 정전기 방전을 제어하기 위한 적절한 바닥, 벽면 및 고전압 기기의 안전 장치를 갖추고 있습니다.
4. 환기 및 배기 시스템: 클린 룸은 공기를 교환하고 오염된 공기를 제거하는 환기 및 배기 시스템을 갖추고 있습니다. 이를 통해 공기 중의 오염물질을 제어하고 깨끗한 환경을 유지합니다.
5. 개인 보호 장비 (PPE): 클린 룸 내에서 작업하는 사람들은 특수한 개인 보호 장비를 착용해야 합니다. 이는 클린 룸 내의 입자 및 오염물질의 유입을 최소화하고 반도체 제조에 안전하게 참여할 수 있도록 돕습니다.
클린 룸은 반도체 제조와 같은 정밀한 작업을 수행하는 다른 산업 분야에서도 중요한 역할을 합니다. 이러한 깨끗한 환경은 제조 공정의 품질, 신뢰성 및 성능에 직접적인 영향을 미치므로, 반도체 업계에서는 클린 룸을 핵심 인프라로 간주합니다.
클린 룸에서 사용되는 FFU(팬 필터 유닛, Fan Filter Unit)는 공기 정화 및 입자 제어를 위한 중요한 장치입니다. FFU는 다음과 같은 역할을 수행합니다:
1. 공기 정화: FFU는 클린 룸 내의 공기를 정화하는 역할을 합니다. 그것은 공기를 필터링하여 입자, 먼지, 섬유 등의 오염물질을 제거합니다. 일반적으로 HEPA(High-Efficiency Particulate Air) 필터를 사용하여 고성능의 입자 제거를 달성합니다.
2. 공기 공급: FFU는 클린 룸 내부로 깨끗하고 정화된 공기를 공급합니다. 팬은 공기를 흡입하고 필터를 통해 정화한 후 클린 룸 내부로 공급합니다. 이를 통해 클린 룸 내의 공기 품질을 유지하고 오염을 제어합니다.
3. 입자 제어: FFU는 클린 룸 내의 입자 제어에 중요한 역할을 합니다. 클린 룸 내부의 공기를 제어하고 필터를 통해 입자를 제거함으로써 깨끗하고 입자가 적은 환경을 유지합니다. 이는 반도체 제조 및 기타 정밀한 작업에 필수적입니다.
4. 소음 제어: FFU는 고성능 팬을 갖추고 있지만, 동시에 소음을 최소화하는 기능도 갖추고 있습니다. 클린 룸 내에서 작업자의 편의와 편안함을 위해 소음 레벨을 조절하고 줄여줍니다.
FFU는 클린 룸 내에서 핵심적인 역할을 수행하여 공기 정화, 입자 제어 및 환경 안정성을 제공합니다. 이를 통해 반도체 제조 및 다른 정밀한 제조 분야에서 고품질의 제품 생산과 안전한 작업 환경을 보장합니다.
반도체 클린 룸에서 OHT(Omni-Directional Transfer)는 반도체 웨이퍼(실리콘 원판) 및 기타 소자를 자동으로 이동시키는 시스템입니다. OHT는 웨이퍼의 안전한 운반과 클린 룸 내에서의 효율적인 작업을 가능하게 합니다. 주요한 특징과 기능은 다음과 같습니다:
1. 자동 이동 시스템: OHT는 반도체 웨이퍼를 자동으로 이동시키는 시스템으로, 로봇 암이나 컨베이어 벨트 등을 이용하여 웨이퍼를 안전하고 정확하게 이동시킵니다. 이를 통해 인력을 절감하고, 작업자의 개입을 최소화하여 작업 효율성을 높입니다.
2. 안전한 운반: OHT 시스템은 웨이퍼를 안전하게 운반하기 위해 진동, 충격, 먼지 등의 요소를 최소화합니다. 이는 반도체 제조에 있어서 웨이퍼의 손상과 오염을 방지하여 생산 품질과 신뢰성을 유지합니다.
3. 고정밀한 위치 제어: OHT는 웨이퍼를 정확한 위치에 배치하고 이동시키는 데 필요한 고정밀한 위치 제어를 제공합니다. 이를 통해 다양한 반도체 제조 공정에서 정확한 위치 정렬을 유지할 수 있습니다.
4. 자동화 및 통합: OHT는 자동화 기능을 갖춘 통합 시스템으로, 다양한 클린 룸 내의 장비 및 시설과 연결되어 웨이퍼 이동 및 작업 프로세스의 자동화를 지원합니다. 이는 반도체 제조 공정의 자동화와 생산 효율성 향상을 도모합니다.
OHT 시스템은 반도체 클린 룸 내에서 웨이퍼의 이동과 작업을 자동화하고 안전하게 수행함으로써 생산성과 품질을 향상시킵니다. 이는 반도체 제조 업계에서 핵심적인 역할을 수행하며, 고급 반도체 생산에 필수적인 기술입니다.